
◎課程大綱:
【課程綱要】 |
【課程內容】 |
半導體材料與積體電路之發展及應用 |
◆ 半導體基本原理 ◆ 矽半導體材料的特點 ◆ 積體電路元件介紹 (含先進Strain Si, FINFFET, GAAFET) ◆ 第三代半導體材料之特點 |
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◆ IC製造流程介紹 ◆ 先進High k/Metal Gate, 鋁製程、銅製程介紹 |
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◆ 晶圓清洗 ◆ 業界晶片清洗步驟 |
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◆ 氧化物薄膜性質 ◆ 熱氧化製程、RTP ◆ 氧化層薄膜之應用 |
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◆ 微影簡介 ◆ 光罩介紹 ◆ 黃光微影製造流程 ◆ 先進微影技術 (光學增強技術/ 多重曝光/ 浸潤式微影) ◆ 新世代微影技術 (EUV, E-Beam)與優缺點 |
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◆ 擴散製程及其應用 ◆ 離子佈植及其應用 |
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◆ 薄膜沉積 ◆ 金屬沉積(金屬物理式沈積、金屬CVD、先進Cu製程電鍍或無電鍍技術) ◆ 先進原子層沉積(ALD)技術 |
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◆ 蝕刻參數 ◆ 電漿乾蝕刻原理及其應用 ◆ 乾蝕刻的限制與優缺點 ◆ 濕蝕刻的限制與優缺點 ◆ 化學機械研磨 (CMP) |
IC製程整合 |
◆CMOS製造流程 ◆IC製程整合流程規範 ◆IC良率 (Yield) |
◎課程建議對象:
1. 電機/電子/材料/機械/化工/資訊等相關研發工程師、產品設計師、生產製造工程師、研究員。
2. 欲瞭解半導體製程及電性驗證、工業安全與淨零碳綠色製程之工程師或有興趣者。
上課日期:下一梯次課程時間規劃中~