產業新尖兵-智慧物聯網開發人才...【日本專家】CMP後清洗技術與化學藥液應用實務
開課日期 | |
2025-11-13 |
課程費用 | |
線上洽詢 |
開課地點 | |
台南市永康區中華路12號18樓-1 |
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課程資訊
適用對象
課程特色
詳細內容
師資介紹
課程資訊
開課日期
2025-11-13
學習時程
11/13(四)13:30-16:30
上課時間
週四
上課時段
下午
適用對象
從事CMP技術工程師、研究人員、開發人員
課程特色
CMP所面臨的整體情況
詳細內容
一、CMP所面臨的整體情況
二、CMP設備構成：AMAT、荏原的設備構成
三、CMP後清洗模組：AMAT、荏原的清洗模組
四、清洗需去除的物質與對應的去除方式
．顆粒（金屬污染、有機污染）
．物理清洗
．Zeta電位的排斥作用
．蝕刻、Lift-off 去除法
五、清洗的副作用
．腐蝕
．蝕刻
．有機異物產生
．水痕
．靜電破壞
六、清洗刷具：滾輪刷的特性
七、清洗所使用的藥液及其目的
．氫氟酸
．有機酸
．螯合劑
．界面活性劑
．pH調整劑
八、乾燥方式
．旋轉乾燥
．Marangoni乾燥
．IPA乾燥
九、各製程的清洗方式
．ILD
．STI
．W
．Cu
十、總結
二、CMP設備構成：AMAT、荏原的設備構成
三、CMP後清洗模組：AMAT、荏原的清洗模組
四、清洗需去除的物質與對應的去除方式
．顆粒（金屬污染、有機污染）
．物理清洗
．Zeta電位的排斥作用
．蝕刻、Lift-off 去除法
五、清洗的副作用
．腐蝕
．蝕刻
．有機異物產生
．水痕
．靜電破壞
六、清洗刷具：滾輪刷的特性
七、清洗所使用的藥液及其目的
．氫氟酸
．有機酸
．螯合劑
．界面活性劑
．pH調整劑
八、乾燥方式
．旋轉乾燥
．Marangoni乾燥
．IPA乾燥
九、各製程的清洗方式
．ILD
．STI
．W
．Cu
十、總結
師資介紹
日本業界退役專家
【上課方式】
台南+線上視訊同步辦理
台南+線上視訊同步辦理
【課程優惠規則說明】
報名1位5,565元/每人
報名2位5,250元/每人
報名3位4,935元/每人
※參加線上視訊，限3位以上團報。
※額外加價525元，升級彩色版講義。
報名1位5,565元/每人
報名2位5,250元/每人
報名3位4,935元/每人
※參加線上視訊，限3位以上團報。
※額外加價525元，升級彩色版講義。
備註
※如有疑問請留下資料由專人與您聯繫。
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