【日本專家】高耐熱・低CTE聚醯亞胺薄膜材料製程實務

開課日期 |

2025-11-20

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開課地點 |

台南市永康區中華路12號18樓-1
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適用對象
課程特色
詳細內容
師資介紹

課程資訊

開課日期

2025-11-20

學習時程

11/20(四)13:30-16:30

上課時間

週四

上課時段

下午

適用對象

從事聚醯亞胺與先進封裝技術之工程師、研發人員。

課程特色

前言:關於半導體封裝的基本課題
 - 矽與銅間CTE差異的技術挑戰

詳細內容

一、聚醯亞胺薄膜基板材料的製程
 1.1 高分子薄膜用材料概述
 1.2 聚醯亞胺的基本結構與成膜製程
二、聚醯亞胺基板的尺寸穩定性
 2.1 CTE(線膨脹係數)的概念
 2.2 高分子材料的熱特性與控制方法
 2.3 高分子的不可逆熱變形行為
三、聚醯亞胺基板的表面特性
 3.1 高分子薄膜的表面控制技術
四、高耐熱・低CTE聚醯亞胺薄膜的應用
 4.1 高密度封裝基板
 4.2 高頻電路基板
 4.3 可撓式顯示器

師資介紹

前田鄉司/(退役專家)東洋紡株式會社 綜合研究所
 
【上課方式】
台南+線上
 
【課程優惠規則說明】
報名1位5,565元/每人
報名2位5,250元/每人
報名3位4,935元/每人
※參加線上視訊,限3位以上團報。
※額外加價525元,升級彩色版講義。

備註

※如有疑問請留下資料由專人與您聯繫。

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