本課程分為三個部分講師先簡介動力學對光刻性能的影響，以半導體曝光機台為例，概略地介紹動態特性對曝光機性能的影響。針對不同的機械系統架構，討論其動態行為及對應的控制設計策略。
       第二、三部分為詳細介紹動態建模和模式綜合，以及測量設置和設備選擇，實務上在實驗設計、訊號處理、器材選用等等各個面向需要注意的事項。
       工業技術研究院於105年起自荷蘭機構High Tech Institute引進Mechatronics Academy學程，並結合台灣在地種子師資，規劃一系列【MA機電整合工程師】培訓班，期盼增加台灣本土機電整合技術人才。

陳講師
【現職】半導體業研發工程師
【學歷】台大機械所博士
【經歷】
新代科技股份有限公司 – 課長
新代科技股份有限公司 – 研發工程師
【專長】伺服控制設計、機械系統動態分析