CMOS製程design rule設計規則

開課日期:2019-05-04 課程費用:6000
上課時間:假日 / 上午,下午 學習時程:21小時
上課地點: 新竹市大學路1001號工程四館 map
適用對象:
半導體產業暨相關系統業者之在職人員或有相關技術需求者
收藏課程
課程特色
課程摘要:
先介紹IC製程工藝及流程,再說明理解FEoL, MEoL, BEoL設計規則Design Rule與製程相關性,再到chip level甚至DFX更高一層工藝/版圖協同設計的理念。
將本課程技術應用在IC layout設計上將可大幅提升從業人員技術水準與開發之產品品質,確保產品開發上市的時程。


詳細內容
課程大綱:
1. 半導體IC導論
2. 製造工藝整合 (光刻,擴散,蝕刻,薄膜)
3. 半導體製造vs.設計版圖 (FEoL, MEoL,BEoL版圖規則)
4. 芯片版圖規則: scaling/migration. 
5. Layout Design布局考量
   (DFx: design for X=manufacturing/reusability;
    PPA: performance power area)
6.Non-CMOS topics (MEMS, RF, HV, etc)
 
師資介紹

傅宗民 先生

現職:沅顧科技有限公司資深顧問

經歷:

沅顧科技有限公司/Founder&資深顧問

˙ITRI,MIRDC,STPIC,QSTSKING

格芯/FAE manager 2015~2018

˙design enablement,工藝/IP/應用(CMOS,HV-PMIC,DDI,sensor,SiGe,SOI,CPI)

高通/Sr.staff 2013~2015

˙wafer-buy foundry contact (AP,RF, PMIC).

台積電/副理 1999~2013

˙製程工藝,產品良率工程,EDA/設計流程.

專長:半導體工藝/IP/設計/應/供應鏈生態系ecosystem;

IP/晶圆/封装codesign協同設計策略.
報名方式
如您對本課程有興趣,或需相關諮詢,請於下方留下您的聯絡資訊,我們將派專人與您聯繫,為您安排上課事宜,或回覆問題,感謝您!
備註
報名網址:https://submic.ee.nctu.edu.tw/curriculum/curriculum.php?Sn=709

★工業局補助課程
.6,000元 備註:一般身份:學員自付6,000元,工業局補助6,000 元
.3,600元 備註:特殊身份優惠:身心障礙、原住民、低收入或中堅企業員工須檢附證明文件,學員自付3,600元,工業局補助8,400元
中堅企業名單查詢:https://www.mittelstand.org.tw/

本課程應配合事項:
*1:核發「結訓證書」依據為出席率8成以上(依據簽到退表資料)
*2:「課程測驗」評量分數60分以上,以是非或選擇題方式進行。

*3:須填交「學員基本資料表」並簽署「個人資料提供同意書」
*4:結訓學員應配合經濟部工業局培訓後電訪調查
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